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4“真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從Z高溫度1200℃環境到冰水或冷油中，可用于研究材料相轉變和微結構性能。
1700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2屬于高溫箱式爐，專門針對于材料在氫氣或惰性氣體環境下進行燒結或退火的使用。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，鉬絲作為加熱元件，Z高溫度可高達1700℃，冷卻水管嵌入爐體頂部密封板中，能有效地保證工作時的冷卻需要及密封性。因此，本機是需在惰性氣體或還原性氣體環境下燒結材料（如鈦合金、熒光材料等）的Z佳選擇。
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4″石英管和真空法蘭，是專為半導體或太陽能電池基片（Z大3″）的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱，Z快升溫速度為 50℃/s，設有30 段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現實時控制和溫度曲線顯示。
4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4″石英管及高真空系統（機械泵+分子泵）， 是專為半導體或太陽能電池基片（Z大3″）的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱，Z快升溫速度為50℃/s，設有30 段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現實時控制和溫度曲線顯示。
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率為5°C/s。
雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統，是專為在金屬箔上生長薄膜而設計的，特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機可通過滑動爐體，實現快速加熱和冷卻。
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